刻蚀设备不断打破浸透率继续提高
日期：2024-12-16 阅读：1次 作者: 工业陶瓷棒
2023年10月26日公司发布三季报，2023年前三季度营收40.4亿元，同比添加33%；完成归母净利润11.6亿元，同比添加46%；完成扣非净利润7,3亿元，同比添加14%。
单Q3营收15亿元，同比添加41%；完成归母净利润1.6亿元，同比下滑52%；完成扣非净利润2.2亿元，同比添加6%。
公司前三季度刻蚀设备收入28.7亿元，同比添加43.4%，要害客户市场占有率逐渐的提高；MOCVD设备完成收入4亿元，同比添加5%。2023年前三季度非经常性损益较去年同期添加2.77亿元。2023年前三季度，公司计入非经常性损益的因股权出资发生的公允市价变化损益和出资损益算计为亏本0.90亿元，较去年同期盈余的0.98亿元削减约1.88亿元。
刻蚀机：已有的产品现已对28纳米以上的绝大部分CCP刻蚀使用和28纳米及以下的大部分CCP刻蚀使用构成较为全面的掩盖。深邃宽比设备快速发展，公司致力于供给超深邃宽比掩膜（≥40:1）和超深邃宽比介质刻蚀(≥60:1)的全套解决方案，开发了用于超深邃宽比掩膜的刻蚀的ICP刻蚀机，和用于超深邃宽比介质刻蚀的CCP刻蚀机。这两种设备都现已展开现场验证，现在发展顺畅。跟着新的ICP产品不断推出，公司在先进逻辑芯片、先进DRAM和3DNAND的ICP验证刻蚀工艺掩盖率有望扩展到50%-70%不等。
薄膜堆积：公司首台CVD钨设备去年底付运到要害存储客户端验证评价，进一步开发新类型CVD钨和ALD钨设备已经过要害客户实验室测验，首台量产验证机已在客户端来测验。EPI外延设备正处于工艺调试和客户验证阶段。公司推出了用于氮化镓功率器材出产的MOCVD设备PrismoPD5，现在已交给国内外抢先客户进行出产验证，并取得了重复订单。公司也启动了使用于碳化硅功率器材外延出产设备的开发，2023年内交给样机至客户端展开出产验证。
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